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進(jìn)口離子濺射真空鍍膜儀 高真空鍍膜儀

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1. 概述
 Cowaq 公司的 S150RTL-1 型全自動(dòng)真空磁控離子濺射儀是用于電鏡樣品前處理的高質(zhì)量的鍍膜儀系統(tǒng)。整臺(tái)設(shè)備采用了低溫磁控設(shè)計(jì)，不僅使金屬

靶和樣品臺(tái)表面的冷卻不再需要，而且更低的濺射電壓也使得儀器的使用壽命、安全性以及濺射效率更高。
2、S150RTL-1 的主要優(yōu)勢(shì)功能包括：
 全自動(dòng)運(yùn)行
 10 寸彩色液晶觸摸屏全自動(dòng)控制
150 mm(6 英寸)大樣品室
低電壓低溫磁控濺射
 參數(shù)可預(yù)設(shè)
全自動(dòng)的操作和控制系統(tǒng)使得用戶能更為方便地通過(guò)預(yù)選擇參數(shù)來(lái)保證鍍層厚度的精確和重復(fù)，也使得樣品表面的鍍層厚度以及顆粒更為均勻。10 寸的 液晶

屏可以更好地消除使用者對(duì)自己視力和手指直徑的擔(dān)憂，獲得更好的操作感覺(jué)。150mm 的樣品室設(shè)計(jì)使用戶能更方便地裝卸更大尺寸的樣品，或是更多的樣

品，不僅可以降低成本，提高靶材的利用率，也大大提高了工作的效率。 配合多功能行星型傾斜旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，可以使不同形狀的樣品表面以及處于整個(gè)真空室

內(nèi)各個(gè)不同位置的樣品表面可以進(jìn)行不同位置、角度交換，從而使所有的樣品表面在不同位置，不同角度得到均勻、一致的鍍膜效果。此濺射儀可以使用標(biāo)準(zhǔn)

的 57mm 直徑，0.1mm 厚的金、鉑、金/鈀、鉑/鈀或用戶自行訂制的其他厚度靶材。所有的濺射參數(shù)都可被預(yù)先設(shè)置，而不需要每次調(diào)節(jié)。完全實(shí)現(xiàn)全自

動(dòng)操作，使用者的參與已經(jīng)被減至很少。

技術(shù)規(guī)格
儀器尺寸：410mm （長(zhǎng)） x 390mm （寬） x 350mm（高），重 20 公斤
 工作腔室：硼硅酸鹽玻璃 150mm（直徑） x 65mm（高）
靶：直徑 57mm，0.1/0.2mm 厚（標(biāo)準(zhǔn)靶為金靶）、
行星傾斜旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)（選配）：直徑 86mm，靶面距離 40mm
真空度： 1x10 -2 mbar
濺射電流：10，20，30，40mA 可調(diào)
沉積速率：0-25 納米/分鐘
濺射定時(shí)：0-300 秒可調(diào)
預(yù)設(shè)置針閥：控制氬氣壓力，自動(dòng)控制氬氣樣品室清洗
真空泵：油泵
真空測(cè)量：皮拉尼真空計(jì)
膜厚測(cè)量，可選配膜厚儀 MTM-20
氬氣要求：99.99% 純氬氣，壓力設(shè)定 0.5/0.6 bar，6.0mm 管路接口
 電源：220 伏， 50Hz
MTM-20 膜厚監(jiān)控儀技術(shù)規(guī)格 （選 配） ：
 基于微處理控制，4 位顯示系統(tǒng)，6 MHz 晶體監(jiān)探器，每秒 5 次實(shí)時(shí)監(jiān)控
膜厚監(jiān)控范圍： 0 到 999.9 納米
分辨率： 優(yōu)于 0.1 納米
密度范圍：0.50 到 30.00gm/cm3
電源：200-240 VAC, 50/60Hz
功率：550VA
葉片式油泵技術(shù)參數(shù)
抽速：24m3/h
極限真空度：5 x 10 -3 Torr
電壓：220V，50Hz
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